Практикум по химии и технологии полупроводников

Автор(ы):	Анохин В. З., Гончаров Е. Г., Кострюкова Е. П., Пшестанчик В. Р., Маршакова Т. А. 09.01.2024
Год изд.:	1978
Описание:	В практикуме описаны лабораторные работы по химии и технологии полупроводников. Пособие предназначено для изучения основных методов физико-химического исследования конденсированных систем (ДТА, тензиметрические методы, построение Р-Г-х-диаграмм, методы микроструктурного анализа и микротвердости), различных методов синтеза, кристаллизационной очистки и выращивания монокристаллов полупроводниковых соединений, а также знакомит с основными технологическими операциями в производстве полупроводниковых приборов (окисление, диффузия, эпитаксия, травление). В каждой работе дано теоретическое введение, приводятся схемы приборов и оборудования, методы количественной обработки экспериментальных результатов.
Оглавление:	Обложка книги. Предисловие [3] Часть I. Основные методы физико-химического анализа. [7] Работа 1. Дифференциальный термический анализ [7] Работа 2. Изучение зависимости давления диссоциации соединений с летучим компонентом от температуры [24] Работа 3. Построение Р-Т-x-диаграмм состояния [36] Работа 4. Изучение микроструктуры и микротвердости [47] Часть II. Методы синтеза и очистки полупроводниковых соединений. Выращивание монокристаллов. [56] Работа 5. Получение соединений с малым давлением диссоциации (одно-температурный синтез) [63] Работа 6. Получение соединений с высоким давлением диссоциации (двухтемпературный синтез) [67] Работа 7. Получение соединений с высоким давлением диссоциации из индифферентного растворителя [71] Работа 8. Получение полупроводниковых материалов методом газотранспортных реакций [75] Работа 9. Получение монокристаллов из расплава (направленная кристаллизация) [84] Работа 10. Получение монокристаллов из раствора-расплава (направленная кристаллизация) [88] Работа 11. Зонная плавка [91] Часть III. Технологические приемы обработки полупроводниковых материалов [96] Работа 12. Химическое травление [100] Работа 13. Окисление кремния [109] Работа 14. Эпитаксиальное наращивание [139] Работа 15. Диффузия примесей в кремнии [150] Приложение [168]
Формат:	djvu + ocr
Размер:	22578965 байт
Язык:	РУС
Рейтинг:	318


Открыть:	Ссылка (RU)