Светочувствительные полимерные материалы
Автор(ы): | Беднарж Б., Ельцов А. В., Заховал Я. и др.
18.06.2010
|
Год изд.: | 1985 |
Описание: | Монография подготовлена учеными СССР и ЧССР. Описаны принципы создания светочувствительных полимерных материалов (фото-, электроно- и рентгенорезистов). Приведены их технические свойства и определены области применения в качестве светокопировальных слоев, в производстве полупроводниковых приборов, печатных плат, полиграфических печатных форм и т. п. Рассмотрены методы синтеза отдельных компонентов и композиций в целом. Книга предназначена научным и инженерно-техническим работникам химической, полиграфической, радиоэлектронной промышленности, специализирующимся в области органического синтеза, теоретической и прикладной фотохимии и занятым созданием новых светочувствительных материалов. |
Оглавление: |
![]() Введение [8] Глава I. Физико-химические основы, приемы и процессы литографии [15] I.1. Формирование слоя резиста [15] I.2. Предэкспозиционная термообработка [21] I.3. Экспонирование [23] I.3.1. Некоторые физические пределы оптического экспонирования [25] I.3.2. Электронное излучение и электронная литография [33] I.3.3. Рентгеновская литография [39] I.3.4. Ионная литография [43] I.3.5. Смешанная литография [44] I.4. Светочувствительность, контрастность, разрешающая способность фоторезистов [44] I.5. Проявление [48] I.5.1. Моделирование экспонировании и проявлении [53] I.6. Постэкспозиционная термообработка [57] I.7. Травление подложки и снятие резиста [57] I.8. Адгезия резистов к подложке [63] Глава II. Позитивные фоторезисты [65] II.1. Системы, содержащие растворимый в основаниях полимер и создающие рельеф в результате превращений светочувствительной гидрофобной добавки [66] II.1.1. Хинондиазидные композиции [66] II.1.1.1. Строение, термо- и фотопревращении нафтохиноидиазидов [67] II.1.1.2. Основные компоненты резистов [75] II.1.1.3. Модификация полимерного компонента резистов [80] II.1.1.4. Улучшение свойств резистного слоя [84] II.1.2. Композиции с веществом, генерирующим под действием света кислоту, и с циклическим ацеталем [95] II.1.3. Композиции с фотоокислителем и дигидропиридином [96] II.2. Системы, создающие рельеф в результате превращений полимера [98] II.2.1. Композиции с веществом, генерирующим под действием света кислоту, и с неустойчивым полимером [98] II.2.2. Композиции с полимером, содержащим о-нитробензильные группы [99] II.2.2.1. Превращения за счет боковых цепей полимеров [99] II.2.2.2. Превращения за счет основных цепей полимеров [101] II.2.2.3. Другие превращения [103] Глава III. Негативные фоторезисты на основе ониевых солей [105] III.1. Диазосоединения [105] III.1.1. Низкомолекулярные соли диазония [105] III.1.2. Диазосмолы [108] III.1.2.1. Двухслойные композиции, дающие негативное изображение [112] III.1.2.2. Однослойные композиции, дающие негативное изображение [115] III.1.2.3. Композиции, дающие позитивное изображение [119] III.2. Ониевые соли как источники кислот Льюиса или Бренстеда [123] III.2.1. Соли диазония [123] III.2.2. Соли мероцианиновых красителей [124] III.2.3. Ониевые соли элементов V, VI, VII групп с комплексными анионами [125] III.2.3.1. Пути фоторазложения [125] III.2.3.2. Композиции светочувствительных слоев [131] Глава IV. Негативные азидсодержащие фоторезисты [133] IV.1. Фотохимические свойства арилазидов [135] IV.2. Олеофильные арилазиды в фоторезистах [141] IV.3. Водорастворимые арилазиды в фоторезистах [151] IV.4. Фоторезисты на основе азидополимеров [155] Глава V. Негативные фоторезисты на основе поливинилциннаматов и других циклодимеризующихся систем [161] V.1. Составы на основе поливинилциннаматов [161] V.2. Другие циклодимеризующиеся полимерные системы [172] Глава VI. Фоторезисты различного назначения [177] VI.1. Фоторезисты для коротковолнового УФ-света [177] VI.1.1. Позитивные фоторезисты [178] VI.1.2. Негативные фоторезисты [186] VI.2. Сухие фоторезисты [187] VI.3. Термостойкие фоторезисты [190] VI.4. Фоторезисты-диффузанты [196] VI.5. Системы с переносом рельефного изображения [200] VI.6. Светочувствительные слои для печатных форм офсета без увлажнения [205] Глава VII. Резисты, чувствительные к электронному и рентгеновскому излучению [212] VII.1. Особенности распространения электронного излучения в полимерных слоях [214] VII.2. Структурирование и деструкция полимеров под действием ионизирующего излучения [222] VII.2.1. Чувствительность полимеров к ионизирующему излучению [224] VII.2.2. Механизмы превращения полимеров [228] VII.2.2.1. Диеновые полимеры [228] VII.2.2.2. Полимеры акриловой и метакриловой кислот и их производных [230] VII.2.2.3. Полиолефины, полиолефинсульфоны [233] VII.2.2.4. Полимеры на основе стирола и винилацетата [235] VII.3. Технологические разработки резистов [237] VII.3.1. Особенности оценки литографических параметров [237] VII.3.2. Электронорезисты [242] VII.3.2.1. Негативные резисты [243] VII.3.2.2. Позитивные резисты [255] VII.3.3. Рентгенорезисты [264] VII.3.4. Неорганические резисты [266] Глава VIII. Многослойные резистные системы [268] Приложение. Промышленные фоторезисты [279] Литература [283] |
Формат: | djvu |
Размер: | 3083433 байт |
Язык: | РУС |
Рейтинг: |
125
|
Открыть: | Ссылка (RU) |